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EKSMA可變衰減器
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2026-02-09
- 產(chǎn)品介紹：EKSMA可變衰減器電動可變衰減器，具有ø22 mm通光孔徑，由薄膜偏振器、半波片和光學機械組成，便于安裝。波片的機動旋轉(zhuǎn)允許輸出光束的強度比的連續(xù)變化。
- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子/電池 |
EKSMA可變衰減器
用于飛秒和Nd：YAG激光脈沖的電動可變衰減器990-0072M
電動可變衰減器，具有?22 mm通光孔徑，由薄膜偏振器、半波片和光學機械組成，便于安裝。波片的機動旋轉(zhuǎn)允許輸出光束的強度比的連續(xù)變化。
將激光束分成兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的光束，以68°角度分開
大動態(tài)范圍
透射光束偏移~1 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和石英零級（光學接觸）半波片或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用）組成，其中UV FS薄膜Brewster型偏振器反射s偏振光而透射p偏振光，并容納在分束器支架840-0056-12中，石英零級（光學接觸）半波片直徑為25.4mm（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片容納在旋轉(zhuǎn)。
通過旋轉(zhuǎn)波片，可以在不改變其他光束參數(shù)的情況下連續(xù)改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發(fā)生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-12運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調(diào)整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面高度可在78~88mm范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產(chǎn)品
For Femtosecond Laser Pulses
| CODE | WAVELENGTH | DAMAGE THRESHOLD | CONFIGURATION |
| 990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
ForHigh Power Laser Applications
| CODE | WAVELENGTH | DAMAGE THRESHOLD | CONFIGURATION |
| 990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
規(guī)格
旋轉(zhuǎn)分辨率： 在全步模式下 在1/8步模式下 | 0.6 arcmin4.5 arcsec |
| 最大轉(zhuǎn)速 | 50 deg/s |
適用于Nd：YAG激光應用
| 孔徑 | 22 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
用于飛秒應用
| 孔徑 | 22 mm |
| 高功率激光應用的損傷閾值: | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
| 時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
| 偏振對比度 | >1:200 |
建議的設置
| 控制器 | 980-1045 |
| 供電 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和電源包含在衰減器套件中，代碼以“+CP "結(jié)尾。
用于Nd：YAG線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
用于Nd：YAG線偏振激光束的可變衰減器將激光束分成兩束強度比可手動調(diào)節(jié)的光束，這兩束光束相隔68°。
將激光束分成兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的光束，以68°角度分開
大動態(tài)范圍
透射光束偏移~0.5 mm
高光學損傷閾值
透射光束衰減范圍:0.5%-95%反射光束衰減范圍:5%-99.5%。
該可變衰減器/分束器由用于56°840-0117A或840-0118A偏振器的特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。薄膜布儒斯特型偏振器反射56°的s偏振光，同時透射p偏振光，它裝在56°偏振器的適配器中。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。
通過旋轉(zhuǎn)波片，可以在不改變其他光束參數(shù)的情況下連續(xù)改變這兩個光束的強度比。可以在寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發(fā)生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。支架840-0197允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得最大偏振對比度。
產(chǎn)品
| CODE | WAVELENGTH |
| 990-0071-266 | 266 nm |
| 990-0071-355 | 355 nm |
| 990-0071-532 | 532 nm |
| 990-0071-1064 | 1064 nm |
規(guī)格
| 光圈直徑 | 10 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
用于Nd：YAG線性偏振激光束的可變衰減器990-0070
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。
將激光束分成兩個平行光束，其強度比可手動調(diào)節(jié)
大動態(tài)范圍
透射光束偏差可忽略不計
高光學損傷閾值
S-POL衰減范圍~0.25%-99.0%P-POL衰減范圍~0.5%-95.0%
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。兩個反射s偏振光而透射p偏振光的薄膜布儒斯特型偏振器容納在適配器中。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。通過旋轉(zhuǎn)波片，可以在不改變其他光束參數(shù)的情況下連續(xù)改變這兩個光束的強度比。可以在寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發(fā)生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。支架840-0197允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得最大偏振對比度。
產(chǎn)品
| CODE | WAVELENGTH |
| 990-0070-266 | 266 nm |
| 990-0070-355 | 355 nm |
| 990-0070-532 | 532 nm |
| 990-0070-1064 | 1064 nm |
規(guī)格
| 光圈直徑 | 17 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度（第一個偏振器后） | >1:200 |
| 偏振對比度（第二個偏振器后） | >1:500 |
EKSMA可變衰減器
用于Nd：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振器支架的運動支架制成，配有薄膜布儒斯特型偏振器和石英半波片。
將激光束分成兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的光束，以68°角度分開
大動態(tài)范圍
透射光束偏移~1.4 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑76.2mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和直徑40mm的石英多級半波片組成，該薄膜Brewster型偏振器反射s-偏振光而透射p-偏振光，并容納在分束器支架840-0056-13中，該石英多級半波片容納在旋轉(zhuǎn)偏振器支架840-0180-A2中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
通過旋轉(zhuǎn)波片，可以在不改變其他光束參數(shù)的情況下連續(xù)改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發(fā)生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-13運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調(diào)整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面的高度可在92-98mm范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產(chǎn)品
| CODE | WAVELENGTH, NM |
| 990-0073-266H | 266 |
| 990-0073-355 | 355 |
| 990-0073-532 | 532 |
| 990-0073-1064 | 1064 |
規(guī)格
| 通光孔徑 | 36 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
| 發(fā)射波束偏移 | ~1.4 mm |
| 體重 | 0.6 kg |
用于Nd：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0072
可變衰減器/分束器由帶偏振器支架的運動支架制成，配有薄膜布儒斯特型偏振器和石英半波片。
將激光束分成兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的光束，以68°角度分開
大動態(tài)范圍
透射光束偏移~1 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和直徑為25.4mm的石英多階半波片組成，該薄膜Brewster型偏振器反射s偏振光而透射p偏振光，并容納在分束器支架840-0056-12中，該石英多階半波片容納在旋轉(zhuǎn)偏振器支架840-0190中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
通過旋轉(zhuǎn)波片，可以在不改變其他光束參數(shù)的情況下連續(xù)改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發(fā)生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-12運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調(diào)整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面高度可在78~88mm范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產(chǎn)品
| CODE | WAVELENGTH, NM |
| 990-0072-266H | 266 |
| 990-0072-355 | 355 |
| 990-0072-532 | 532 |
| 990-0072-1064 | 1064 |
規(guī)格
| 通光孔 | 22 mm |
| 損傷閾值 | >10 J/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
| 發(fā)射波束偏移 | ~1 mm |
| 體重 | 0.45 kg |
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